ファインセラミックス
優れた機能性を持つファインセラミックスは、光通信用ヒートシンクをはじめ、各種基板の材料として国内大手エレクトロニクスメーカーへ多数納入。腐食性ガスに対する高耐性を活かして半導体製造装置等の耐火物に、また、耐摩耗性の高さからベアリングとしても活用されています。
光文では、多様な特性を備えたファインセラミックスを幅広くラインナップ。窒化アルミ(AlN)から窒化ケイ素(Si3N4)、炭化ケイ素(SiC)、アルミナ(Al2O3)、ジルコニア(ZrO2)まで、豊富に取揃えています。
ファインセラミックス 製品一覧
-
AlN
優れた電気絶縁性と熱伝導性を具えたAlN。各種放熱基板や、半導体製造装置用の耐火物等に最適です。
製品詳細
-
Si3N4
高強度で、剛性・耐摩耗性に優れたSi3N4。パワー半導体基板や、高周波デバイス基板等に利用されます。
製品詳細
-
SiC
高温下でも安定した強度を発揮するSiC。パワー半導体基板や、高周波デバイス基板にも採用されています。
製品詳細
-
Al2O3
酸化物系ファインセラミックスを代表するAl2O3。LTCC基板や、チップ抵抗器用基板等に活用されます。
製品詳細
-
ZrO2
最高の強度・靭性と、高耐摩耗・耐衝撃性を持つZrO2。光通信用フェルール等に最適な材料です。
製品詳細