Si3N4(窒化ケイ素)
軽量かつ高温下での破壊靱性に優れたファインセラミックス
窒化ケイ素(Si3N4)は、非酸化物系セラミックスの中では、非常に高い破壊靭性を持っています。さらに、高強度、高熱伝導率に加えて、耐熱衝撃性・耐摩耗性・耐食性などの優れた特性を併せ持った材料です。主要化学組成は四窒化三ケイ素 Si3N4で、焼結時に安定化促進のために焼結助剤が用いられます。
【利用分野】
高温状態でも強度を保ち、耐摩耗特性により、高性能ベアリングやエンジン、タービンなどの部品に欠かせない部材として活用されています。また、窒化ケイ素製のベアリングは、超高温や酸、アルカリなどの劣悪環境にも適応可能。さらに、放熱や絶縁が必要なパワーモジュール基板、高周波デバイスの基板などの高信頼性部品にも使用されています。
光文の優位性
光文では、窒化ケイ素に関する、さまざまなご要望に対応、
小ロットから量産まで、高品質で優れた材料を低コストでご提供いたします。
窒化ケイ素に関するご対応について
- メタライズ加工に対応
- 粉末射出成型による複雑形状も製造可能 etc...
製品データ
密度(g/cm3) | 3.2 |
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熱膨張係数(x10-6/K) | 3.1 |
熱伝導度(W/m・K) | 90 |
Si3N4部品は、このような用途に最適です
窒化ケイ素は、高温状態での強靭性、耐熱衝撃性に優れ、軽量で耐蝕性も高いため、パワー半導体基板や高周波デバイス基板等の高温下で高強度を求められる電子部品の材料として最適です。
主な用途分野
- パワー半導体基板
- 高周波デバイス基板
- ベアリング
- エンジンロータ
- 金属溶解用ノズル etc...
レアメタル・特殊金属との複合部品製造に対応
材料単体での納入はもちろん、ファインセラミックスとコバール&アルミナを組み合わせた高周波パッケージや、光デバイス用ステム、ガラス封止されたチタン電極等、複合部品での納品も可能。最適な専門工場のセレクトにより、優れた品質の高機能電子部品の供給にも対応しています。